2F R212 製程設備

2F R212

工程三館 2F 52 坪

配置高溫爐管、熱蒸鍍、蝕刻、手套箱與多組 Clean Hood。

2F R212 製程設備

Furnace / THERMO LINDBERG 1700C Tube Furnaces

• 狀態：Available。
• 功能：1700 度 C 高精密度高溫反應實驗。

Thermal Evaporator

• 狀態：Available。
• 功能：破片晶圓之金屬薄膜熱蒸鍍製程，晶圓尺寸小於 2 吋。
• 載片尺寸：6 吋。
• 可鍍金屬：Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Si、In、Pd。
• 抽氣系統：RP + turbo pump，最低壓力 2.0E-6 Torr。

Mask Aligner / Suss MJB-3

• 狀態：Available。
• 功能：破片晶圓之光阻曝光製程，晶圓小於 2 吋。
• 光罩尺寸：4 吋與 5 吋。
• 製程能力：最小線寬 3 um；對準誤差 1 um。

Neutral Beam Etcher / YOUTEC

• 狀態：Available。
• 功能：可產生中性粒子束進行材料蝕刻。
• 晶圓尺寸：4 吋晶圓；破片可黏貼於 4 吋晶圓上。
• 製程氣體：Cl2、BCl3、SF6、H2、He、Ar、O2、N2。

Clean Hood / Glove Box / ALE

Clean Hood 與 Glove Box 支援製程前後處理與特殊環境需求；ALE 為預留設備，依後續設備公告為準。