前瞻電子元件與材料研究中心

本中心以工程三館為核心，提供從半導體薄膜磊晶、微米級圖形定義到後段封裝接合的元件製程與研發平台。

我們提供的研究支援

• 整合共享設備、無塵室空間與製程服務。
• 支援校內研究、產學合作與跨領域協作。
• 透過訓練與資格制度，建立安全、可重現的設備使用流程。

空間與治理

中心空間位於工程三館 1F、2F 與後棟 3F；各空間的設備、使用資格與可預約狀態，依儀器公告與預約系統為準。

第一屆委員包括楊尚達教授、葉昭輝教授、劉昌樺教授與黃敬源教授。

永續經營

• 技術突破：聚焦具前瞻性、跨領域且高需求的量測與製程設備。
• 資源共享：優先配置可供多組師生共享的設備，促進跨團隊合作與知識流通。
• 收支平衡：透過產學合作與合理收費制度，維持中心長期運作。

設備評估與退場

目前管理原則以設備的創新性、共享性與收益貢獻度為評量方向。若設備連續 6 個月無使用紀錄，或 12 個月內累計使用低於 100 小時，將列為低利用率設備，並可能進入費率調整或退場評估。